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Entwicklung und Optimierung von plasmabasierten Beschichtungs- und Ätzprozessen zur Steigerung des Wirkungsgrades kristalliner Siliziumsolarzellen
Weitere Informationen: Kontakt		Der Weltmarkt für Photovoltaik (PV) verzeichnet jährlich durchschnittliche Wachstumsraten von 30 bis 40 Prozent. Zur nachhaltigen Abwendung der weltweiten Klimaerwärmung ist es unabdingbar, dass dieses Wachstum nicht nur anhält sondern weiter zunimmt. Eine Voraussetzung hierfür ist eine deutliche Senkung der Herstellungskosten von PV-Modulen. Ein besonders vielversprechender Ansatz zur Kostensenkung ist die integrierte Fertigung von Solarzellen, da so das aufwendige Handling zwischen den Prozessschritten auf ein Minimum beschränkt wird. Außerdem lassen PVD-Technologien Beschichtungskosten von maximal einigen Euro pro Quadratmeter erwarten. Bereits heute sind In-Line taugliche Technologien zur Abscheidung von metallischen Kontakten und transparenten Elektroden verfügbar und industriell eingeführt. Ein Ziel des Vorhabens ist es, die Eignung dieser Technologien für die Fertigung von Solarzellen und insbesondere ihr Kostensenkungspotential zu untersuchen und sie diesbezüglich zu optimieren. Weitere Ziele des Vorhabens sind die Evaluierung von magnetronbasierten PECVD-Prozessen als potenzielle Technologien zur kostengünstigen großflächigen Abscheidung von Silizium-Absorberschichten. Ein hervorragendes Werkzeug zur Bearbeitung von Werkstücken im Vakuum ist der Elektronenstrahl. Daher soll untersucht werden, inwieweit sich der Elektronenstrahl für das Bohren dünner Silizium-Wafer eignet und welches Kostensenkungspotential er hier eröffnet.

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